全球採購
聯繫我們
TOP

KS-CM300/200單片式化學清洗機

KS-CM300/200單片式化學清洗機適用於沉積前清洗、蝕刻後清洗、離子注入後清洗、CMP後清洗等多種前段工藝(FEOL)和後段工藝(BEOL)清洗行程,可適配高溫SPM工藝,工藝覆蓋率達80%以上; 搭載獨立開發的新一代高清洗效率低損傷射流噴嘴,潔淨度達到先進制程所需水准。
产品优势:

可配置8腔體、12腔體和16腔體,單Chamber占地面積更小
具有雙面清洗能力,可配置多種化學液:
DHF,SC1,SC2,DIO3,H2SO4,IPA,DSP,ST250,EKC等
完全自主國產化設備,搭配芯源高速自研機械手
SC1/SC2線上及時混合DMS,可使用多種濃度配比
液體流量一鍵設定,閉環迴響自動調節
Chamber自動清洗,减少PM時間

应用领域:

● RCA标准清洗
● 气相沉积前清洗
● CMP、TSV后清洗
● 刻蚀后清洗
● EPI、ALD前清洗
● 用于聚合物、薄膜材料的去除

聯繫我們